三、光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

1、光刻機(jī)占比

光刻機(jī)能夠?qū)⑿酒瑘D案投影到硅片上，實(shí)現(xiàn)微小結(jié)構(gòu)的制造。目前，光刻機(jī)是半導(dǎo)體設(shè)備中市場(chǎng)占比最大的產(chǎn)品，市場(chǎng)占比達(dá)24%。

數(shù)據(jù)來源：SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

2、光刻機(jī)全球市場(chǎng)規(guī)模

近年來，在消費(fèi)電子需求相對(duì)低迷的情況下，電動(dòng)汽車、風(fēng)光儲(chǔ)、人工智能等新需求成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)成長(zhǎng)的新動(dòng)能，全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模平穩(wěn)增長(zhǎng)。根據(jù)SEMI公布的數(shù)據(jù)，2022年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模為1076.5億美元，其中光刻機(jī)市場(chǎng)占比約為24%，規(guī)模達(dá)到約258.4億美元，2023年約為271.3億美元。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測(cè)，2024年全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模將增至315億美元。

數(shù)據(jù)來源：SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

3、光刻機(jī)銷量結(jié)構(gòu)

目前，全球光刻機(jī)銷量仍以中低端產(chǎn)品(KrF、i-Line)為主，占比分別為37.9%和33.6%；其次分別為ArFi、ArFdry、EUV，占比分別為15.4%、5.8%及7.3%。其中，EUV是全球光刻機(jī)的重要發(fā)展方向之一，其價(jià)格遠(yuǎn)高于其他種類的光刻機(jī)。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

4、光刻機(jī)競(jìng)爭(zhēng)格局

光刻機(jī)市場(chǎng)呈現(xiàn)寡頭壟斷格局，前三供應(yīng)商（荷蘭阿斯麥、日本佳能、日本尼康）占據(jù)絕大多數(shù)市場(chǎng)份額，其中，ASML市場(chǎng)份額占比82.1%，Canon市場(chǎng)份額占比10.2%，Nikon市場(chǎng)份額占比7.7%。國內(nèi)企業(yè)中，上海微電子是目前中國第一家也是唯一一家光刻機(jī)巨頭，具備90nm及以下的芯片制造能力。根據(jù)公開數(shù)據(jù)，上海微電子光刻機(jī)出貨量此前已占到國內(nèi)市場(chǎng)份額超過80%。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理