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2021年全球薄膜沉積設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)現(xiàn)狀及市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局預(yù)測(cè)分析（圖）

來(lái)源：中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布日期：2021-08-09 09:06

半導(dǎo)體設(shè)備

中商情報(bào)網(wǎng)訊：低壓化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)（LPCVD）把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入LPCVD設(shè)備的反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜；等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)（PECVD）在沉積室利用輝光放電，使其電離后在襯底上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，沉積半導(dǎo)體薄膜材料。

市場(chǎng)規(guī)模

根據(jù)MaximizeMarketResearch數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)，2017-2019年全球半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模分別為125億美元、145億美元和155億美元，2020年擴(kuò)大至約172億美元，年復(fù)合增長(zhǎng)率為11.2%。

數(shù)據(jù)來(lái)源：Maximize Market Research、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

市場(chǎng)占比

薄膜沉積工藝的不斷發(fā)展，形成了較為固定的工藝流程，同時(shí)也根據(jù)不同的應(yīng)用演化出了PECVD、濺射PVD、ALD、LPCVD等不同的設(shè)備用于晶圓制造的不同工藝。其中，PECVD是薄膜設(shè)備中占比最高的設(shè)備類(lèi)型，占整體薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)的33%；ALD設(shè)備目前占據(jù)薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)的11%；SACVD是新興的設(shè)備類(lèi)型，屬于其他薄膜沉積設(shè)備類(lèi)目下的產(chǎn)品，占比較小。在整個(gè)薄膜沉積設(shè)備市場(chǎng)，屬于PVD的濺射PVD和電鍍ECD合計(jì)占有整體市場(chǎng)的23%。