(二)半導(dǎo)體設(shè)備
1.半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模
半導(dǎo)體設(shè)備主要包括光刻機(jī)、刻蝕設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備、離子注入設(shè)備、涂膠顯影設(shè)備等半導(dǎo)體設(shè)備是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的先導(dǎo)、基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè),具有技術(shù)壁壘高、研發(fā)周期長(zhǎng)、研發(fā)投入高、制造難度大等特點(diǎn),是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最難攻克卻至關(guān)重要的一環(huán)。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)供需趨勢(shì)及發(fā)展戰(zhàn)略研究預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示,2023年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模約為2190.24億元,占全球市場(chǎng)份額的35%。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測(cè),2024年中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)2300億元。
數(shù)據(jù)來(lái)源:SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
2.重點(diǎn)企業(yè)分析
我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化已取得一定進(jìn)展,在去膠、CMP、刻蝕和清洗設(shè)備市場(chǎng)的國(guó)產(chǎn)化率已突破雙位數(shù),成長(zhǎng)邊界不斷拓寬。光刻機(jī)、量測(cè)檢測(cè)設(shè)備、離子注入機(jī)和涂膠顯影設(shè)備等領(lǐng)域的國(guó)產(chǎn)化率仍在10%以下,國(guó)產(chǎn)化率較低。
資料來(lái)源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理