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2024年中國存儲芯片產(chǎn)業(yè)鏈圖譜研究分析（附產(chǎn)業(yè)鏈全景圖）

來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布日期：2024-03-06 09:05

存儲芯片

3.濺射靶材

濺射靶材是指一種用濺射沉積或薄膜沉積技術制造薄膜的材料。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029中國靶材市場現(xiàn)狀及未來發(fā)展趨勢》顯示，2022年中國靶材市場規(guī)模達到395億元，同比增長6.76%，2023年市場規(guī)模約為431億元。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預測，2024年中國靶材行業(yè)市場規(guī)模將達到476億元。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

4.光刻機

（1）市場規(guī)模

近年來，在消費電子需求相對低迷的情況下，電動汽車、風光儲、人工智能等新需求成為半導體產(chǎn)業(yè)成長的新動能，全球光刻機市場規(guī)模平穩(wěn)增長。數(shù)據(jù)顯示，2022年全球半導體設備市場規(guī)模為1076.5億美元，其中光刻機市場占比約為24%，規(guī)模達到約258.4億美元，2023年約為271.3億美元。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預測，2024年全球光刻機市場規(guī)模將增至295.7億美元。

數(shù)據(jù)來源：SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

（2）重點企業(yè)分析

目前中國光刻機生產(chǎn)企業(yè)較少，主要企業(yè)包括上海微電子裝備有限公司、北京華卓精科科技股份有限公司、北京科益虹源光電技術有限公司、長春國科精密光學技術有限公司、北京國望光學科技有限公司、浙江啟爾機電技術有限公司、東方晶源微電子科技公司。具體如圖所示：

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

5.刻蝕機

刻蝕機主要用來制造半導體器件、光伏電池及其他微機械等。近年來，全球刻蝕機市場規(guī)模呈增長趨勢。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2017-2027全球及中國半導體設備行業(yè)深度研究報告》顯示，2019-2022年，全球刻蝕機市場規(guī)模由115億美元增至139.9億美元，復合年均增長率達6.8%，2023年約為148.2億美元。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預測，2024年全球刻蝕機市場規(guī)模將達156.5億美元。