4.靶材
(1)濺射靶材市場規(guī)模
按使用的原材料材質(zhì)不同,濺射靶材可分為金屬/非金屬單質(zhì)靶材、合金靶材、化合物靶材等。數(shù)據(jù)顯示,我國濺射靶材市場規(guī)模從2017年的207億元增至2020年的337億元,年均復(fù)合增長率為17.6%,中商產(chǎn)業(yè)研究院預(yù)測,2022年我國濺射靶材市場規(guī)模將達(dá)396億元。
數(shù)據(jù)來源:江豐電子、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
(2)濺射靶材應(yīng)用市場結(jié)構(gòu)
濺射靶材主要應(yīng)用于超大規(guī)模集成電路芯片、液晶面板、薄膜太陽能電池制造的物理氣相沉積(PVD)工藝,用于制備電子薄膜材料靶材市場最大的下游應(yīng)用是包括半導(dǎo)體、液晶面板等在內(nèi)的電子行業(yè)。其中濺射靶材在半導(dǎo)體領(lǐng)域的占比高達(dá)45%。
數(shù)據(jù)來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
5.刻蝕機(jī)
刻蝕機(jī)主要用來制造半導(dǎo)體器件、光伏電池及其他微機(jī)械等。數(shù)據(jù)顯示,2020年全球刻蝕設(shè)備市場規(guī)模123.3億美元,預(yù)計(jì)到2022年市場規(guī)模139.9億美元,2019-2022年年均復(fù)合增長率為6.8%。
數(shù)據(jù)來源:Gartner、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理