中商情報網(wǎng)訊：近年來，隨著大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的快速發(fā)展，光刻膠作為微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，也迎來了高速發(fā)展。隨著中國企業(yè)在半導體光刻膠關鍵技術領域取得突破，以及中國半導體產能快速擴展和供應鏈自主可控需求帶來的發(fā)展機遇，國內半導體光刻膠發(fā)展。
一、光刻膠定義
光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。經(jīng)過幾十年不斷的發(fā)展和進步，光刻膠的應用領域不斷擴大，衍生出非常多的種類，根據(jù)應用領域，光刻膠可分為半導體光刻膠、平板顯示光刻膠和PCB光刻膠，其技術壁壘依次降低，具體如下圖所示：
資料來源：中商產業(yè)研究院整理
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