
全球高純?yōu)R射靶材(High Purity Sputtering Target Material)主要廠商有Linde、Mitsui Mining & Smelting、JX Nippon Mining & Metals Corporation、Materion、Honeywell和Konfoong Materials International Co., Ltd等,全球前六大廠商共占有超過60%的市場份額。目前亞太是全球最大的高純?yōu)R射靶材市場,占有大約85%的市場份額,之后是北美市場,占有接近9%的份額。本文研究全球及中國市場高純?yōu)R射靶材現(xiàn)狀及未來發(fā)展趨勢,側(cè)重分析全球及中國市場的主要企業(yè),同時對比北美、歐洲、中國、日本、東南亞、印度等地區(qū)的現(xiàn)狀及未來發(fā)展趨勢。2020年全球高純?yōu)R射靶材市場規(guī)模達到了124億元,預計2027年將達到189億元,年復合增長率(CAGR)為2.1%。本文重點分析在全球及中國有重要角色的企業(yè),分析這些企業(yè)高純?yōu)R射靶材產(chǎn)品的市場規(guī)模、市場份額、市場定位、產(chǎn)品類型以及發(fā)展規(guī)劃等。主要企業(yè)包括: Linde Mitsui Mining & Smelting JX Nippon Mining & Metals Corporation Materion Honeywell Konfoong Materials International Co., Ltd ULVAC TOSOH Luvata Hitachi Metals LT Metal Sumitomo Chemical Plansee SE Fujian Acetron New Materials Co., Ltd FURAYA Metals Co., Ltd Luoyang Sifon Electronic Materials Changzhou Sujing Electronic Material Umicore GRIKIN Advanced Material Co., Ltd. Advantec Angstrom Sciences按照不同產(chǎn)品類型,包括如下幾個類別: 金屬濺射靶材 合金濺射靶材 非金屬濺射靶材按照不同應用,主要包括如下幾個方面: 半導體 太陽能 平板顯示器 硬盤驅(qū)動器 其他重點關(guān)注如下幾個地區(qū): 北美 歐洲 中國 亞太 南美本文正文共8章,各章節(jié)主要內(nèi)容如下:第1章:報告統(tǒng)計范圍、產(chǎn)品細分及全球總體規(guī)模及增長率等數(shù)據(jù),2016-2027年;第2章:全球不同應用高純?yōu)R射靶材市場規(guī)模及份額等;第3章:全球高純?yōu)R射靶材主要地區(qū)市場規(guī)模及份額等;第4章:全球范圍內(nèi)高純?yōu)R射靶材主要企業(yè)競爭分析,主要包括高純?yōu)R射靶材收入、市場份額及行業(yè)集中度分析;第5章:中國市場高純?yōu)R射靶材主要企業(yè)競爭分析,主要包括高純?yōu)R射靶材收入、市場份額及行業(yè)集中度分析;第6章:全球高純?yōu)R射靶材主要企業(yè)基本情況介紹,包括公司簡介、高純?yōu)R射靶材產(chǎn)品、高純?yōu)R射靶材收入及最新動態(tài)等;第7章:行業(yè)發(fā)展機遇和風險分析;第8章:報告結(jié)論。
?本報告所有內(nèi)容受法律保護,中華人民共和國涉外調(diào)查許可證:國統(tǒng)涉外證字第1454號。 本報告由中商產(chǎn)業(yè)研究院出品,報告版權(quán)歸中商產(chǎn)業(yè)研究院所有。本報告是中商產(chǎn)業(yè)研究院的研究與統(tǒng)計成果,報告為有償提供給購買報告的客戶內(nèi)部使用。未獲得中商產(chǎn)業(yè)研究院書面授權(quán),任何網(wǎng)站或媒體不得轉(zhuǎn)載或引用,否則中商產(chǎn)業(yè)研究院有權(quán)依法追究其法律責任。如需訂閱研究報告,請直接聯(lián)系本網(wǎng)站,以便獲得全程優(yōu)質(zhì)完善服務。 本報告目錄與內(nèi)容系中商產(chǎn)業(yè)研究院原創(chuàng),未經(jīng)本公司事先書面許可,拒絕任何方式復制、轉(zhuǎn)載。 在此,我們誠意向您推薦鑒別咨詢公司實力的主要方法。
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