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2021年中國掩膜版行業(yè)最新政策匯總一覽（圖）

來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布日期：2021-12-16 10:04

掩膜版

中商情報(bào)網(wǎng)訊：掩膜版是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。掩膜版的應(yīng)用廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（集成電路）、FPD（平板顯示器）、PCB（印刷電路板）、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等。

近年來，國家和政府相繼出臺(tái)政策支持掩膜版行業(yè)發(fā)展。2021年3月，《中華人民共和國國民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展第十四個(gè)五年規(guī)劃和2035年遠(yuǎn)景目標(biāo)綱要》提出要加強(qiáng)原創(chuàng)性引領(lǐng)性科技攻關(guān)。瞄準(zhǔn)人工智能、量子信息、集成電路、生命健康、腦科學(xué)、生物育種、空天科技、深地深海等前沿領(lǐng)域，實(shí)施一批具有前瞻性、戰(zhàn)略性的國家重大科技項(xiàng)目。發(fā)展壯大戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)。聚焦新一代信息技術(shù)、生物技術(shù)、新能源、新材料、高端裝備、新能源汽車、綠色環(huán)保以及航空航天、海洋裝備等戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)，加快關(guān)鍵核心技術(shù)創(chuàng)新應(yīng)用。具體政策如下：

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

更多資料請(qǐng)參考中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《中國掩膜版行業(yè)市場前景及投資機(jī)會(huì)研究報(bào)告》，同時(shí)中商產(chǎn)業(yè)研究院還提供產(chǎn)業(yè)大數(shù)據(jù)、產(chǎn)業(yè)情報(bào)、產(chǎn)業(yè)研究報(bào)告、產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、園區(qū)規(guī)劃、十四五規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)招商引資等服務(wù)。