2023年全球掩膜版市場規(guī)模及下游應用情況預測分析(圖)
來源:中商產業(yè)研究院 發(fā)布日期:2023-09-04 08:55
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中商情報網訊:光掩版一般指光掩膜基版。 光掩膜基版是制作微細光掩膜圖形的理想感光性空白板,通過光刻制版工藝可以獲得所需光掩膜版。

市場規(guī)模

掩膜版是微電子制造過程中的圖形轉移母版,是平板顯示、半導體、觸控、電路板等行業(yè)生產制造過程中重要的關鍵材料,其中,半導體是掩膜版最主要的應用領域,占比60%。中商產業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029全球及中國光掩膜板行業(yè)研究及十四五規(guī)劃分析報告》顯示,2018-2022年,全球半導體掩膜版市場規(guī)模由40.41億美元增長至49億美元,復合年均增長率達4.9%。中商產業(yè)研究院分析師預測,2023年半導體掩膜版市場規(guī)模將繼續(xù)增長至50.98億美元。

數據來源:SEMI、中商產業(yè)研究院整理

下游應用情況

掩膜版在半導體、顯示面板、觸摸屏、電路板等領域生產均有使用。從下游應用來看,掩膜版IC和平板顯示領域使用量最多,其中半導體占據60%的份額,LCD占比23%份額,OLED占比5%,PCB占比2%。

數據來源:中商產業(yè)研究院整理

更多資料請參考中商產業(yè)研究院發(fā)布的《中國半導體材料行業(yè)場前景及投資機會研究報告》,同時中商產業(yè)研究院還提供產業(yè)大數據、產業(yè)情報、行業(yè)研究報告、行業(yè)白皮書、商業(yè)計劃書、可行性研究報告、園區(qū)產業(yè)規(guī)劃、產業(yè)鏈招商圖譜、產業(yè)招商指引、產業(yè)鏈招商考察&推介會等服務。

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