中商情報(bào)網(wǎng)訊：高性能濺射靶材伴隨著半導(dǎo)體、平面顯示、信息存儲(chǔ)、微電子等產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而興起，涉及到電性、磁性、熱性、反射率及顏色外觀等多個(gè)技術(shù)特性，屬于典型的技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)，生產(chǎn)技術(shù)、機(jī)器設(shè)備、工藝流程和工作環(huán)境要求非常嚴(yán)格，長(zhǎng)期以來一直為國外壟斷。

隨著各類濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路、平面顯示、信息存儲(chǔ)等領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用，下游領(lǐng)域?qū)R射靶材這一高附加值功能材料的需求不斷增加,高性能濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模日益擴(kuò)大，呈快速增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。數(shù)據(jù)顯示，2021年，全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)規(guī)模上升至213億美元。未來，隨著物聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)、新型顯示、太陽能電池、節(jié)能玻璃等新型基礎(chǔ)設(shè)施和新型應(yīng)用領(lǐng)域的發(fā)展，濺射靶材的終端應(yīng)用領(lǐng)域?qū)⑦M(jìn)一步擴(kuò)大，全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)規(guī)模仍將持續(xù)穩(wěn)定增長(zhǎng)，預(yù)計(jì)2023年其市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)258億美元。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

憑借專利技術(shù)上的先發(fā)優(yōu)勢(shì)，以及雄厚的技術(shù)力量、精細(xì)的生產(chǎn)控制和過硬的產(chǎn)品質(zhì)量，美國、日本、歐洲等發(fā)達(dá)國家或地區(qū)的大型濺射靶材廠商占據(jù)了全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)較高的市場(chǎng)份額。以JX金屬、霍尼韋爾、東曹和普萊克斯等為代表的大型跨國企業(yè)成立較早，歷史悠久，發(fā)展成熟，囊括了金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用等全產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié)。另外，三井金屬、住友化學(xué)、愛發(fā)科、世泰科、攀時(shí)等資金實(shí)力雄厚、技術(shù)水平領(lǐng)先、產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗(yàn)豐富的跨國公司在各自的優(yōu)勢(shì)靶材領(lǐng)域處于市場(chǎng)領(lǐng)先地位。

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