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2022年中國(guó)顯示驅(qū)動(dòng)芯片行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈上中下游市場(chǎng)分析（附產(chǎn)業(yè)鏈全景圖）

來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布日期：2022-11-10 17:15

顯示驅(qū)動(dòng)芯片

3.高性能濺射靶材

高性能濺射靶材是制備半導(dǎo)體晶圓、顯示面板等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料，應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積工藝。在國(guó)家政策支持以及下游眾多應(yīng)用領(lǐng)域需求的支撐下，高性能濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模不斷擴(kuò)大。數(shù)據(jù)顯示，中國(guó)高性能濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模由2016年的98.9億元增長(zhǎng)至2020年的201.5億元，年均復(fù)合增長(zhǎng)率為19.5%。預(yù)計(jì)2022年將達(dá)288.1億元。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

4.光刻機(jī)

光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備。目前，光刻機(jī)市場(chǎng)是典型的“三分天下”格局。ASML、尼康（Nikon）、佳能（Canon）市場(chǎng)占有率超過90%，是典型的寡頭壟斷市場(chǎng)，而ASML更是壟斷最高端的極紫外（EUV）光刻機(jī)市場(chǎng)。Nikon與Canon分別占據(jù)10.4％和10.2％的市場(chǎng)份額

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

此外，上海微電子是中國(guó)技術(shù)最領(lǐng)先的光刻設(shè)備廠商，主要產(chǎn)品是SSX600系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)，可滿足集成電路前道制造90nm、110nm和280nm光刻工藝需求，可用于8寸線或12寸線的大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。