2022年全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模及競爭格局預(yù)測分析(圖)
來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院 發(fā)布日期:2022-08-12 09:11
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中商情報(bào)網(wǎng)訊:清洗步驟貫穿整個(gè)半導(dǎo)體制程,用于去除半導(dǎo)體硅片制備、晶圓制造和封裝測試每個(gè)步驟中可能存在的雜質(zhì)、避免雜質(zhì)影響芯片良率和芯片產(chǎn)品的性能。

市場規(guī)模

目前,隨著芯片制程工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)的不斷提高,對每一步驟晶圓表面的污染物和殘留物的要求日益提升。2020年全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模為25.39億美元,同比下降16.72%。預(yù)計(jì)到2024年,全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模將增至 31.93 億美元。

數(shù)據(jù)來源:Gartner、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

競爭格局

全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備仍由DNS和TEL主導(dǎo),兩家市場份額占比達(dá)77%。其次分別為Lam、SEMES、盛美,占比分別為12%、5%、3%。

數(shù)據(jù)來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

更多資料請參考中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)市場前景及投資機(jī)會(huì)研究報(bào)告》,同時(shí)中商產(chǎn)業(yè)研究院還提供產(chǎn)業(yè)大數(shù)據(jù)、產(chǎn)業(yè)情報(bào)、產(chǎn)業(yè)研究報(bào)告、產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、園區(qū)規(guī)劃、十四五規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)招商引資等服務(wù)。

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