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    第三代半導體材料發(fā)展規(guī)劃分析:6英寸晶片將成為主流(圖)
    來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院 發(fā)布日期:2021-12-09 14:01
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    中商情報網(wǎng)訊:半導體襯底材料包括硅材料和砷化鎵、碳化硅、氮化鎵等化合物半導體材料。硅是目前技術(shù)最成熟、使用范圍最廣、市場占比最大的襯底材料,近年來隨著材料制備技術(shù)與下游應用市場的成熟,以碳化硅為代表的第三代半導體襯底材料市場規(guī)模持續(xù)擴大。

    市場規(guī)模

    碳化硅器件正在廣泛地被應用在電力電子領(lǐng)域中,典型市場包括軌交、功率因數(shù)校正電源、風電、光伏、新能源汽車、充電樁、不間斷電源等。2018-2019年,受新能源汽車、工業(yè)電源等應用的推動,全球電力電子碳化硅的市場規(guī)模從4.3億美元增長至5.64億美元,中商產(chǎn)業(yè)研究院預測未來市場仍將因新能源汽車產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而增長,預計2021年的市場規(guī)模將達7億美元。

    數(shù)據(jù)來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

    市場競爭格局

    從全球碳化硅襯底的企業(yè)經(jīng)營情況來看,以導電性碳化硅晶片廠商市場占有率為參考,美國CREE公司占龍頭地位,市場份額達62%,其次是美國II-VI公司,市場份額約為16%??傮w來看,在碳化硅市場中,美國廠商占據(jù)主要地位。我國碳化硅晶體、晶片領(lǐng)域的研究從20世紀90年代末開始起步,在行業(yè)發(fā)展初期受到技術(shù)水平和產(chǎn)能規(guī)模的限制,未進入工業(yè)化生產(chǎn)。進入21世紀,以天科合達為代表的國內(nèi)企業(yè)開始探索碳化硅單晶片的工業(yè)化生產(chǎn),經(jīng)過10余年的持續(xù)研發(fā)與探索,掌握了2-6英寸的碳化硅晶體生長和晶片加工的關(guān)鍵技術(shù)。

    數(shù)據(jù)來源:Yole Development、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

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