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2021年中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈上中下游市場(chǎng)分析（附產(chǎn)業(yè)鏈全景圖）

來(lái)源：中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布日期：2021-03-23 16:59

光刻機(jī) 芯片

二、上游分析

1.主要組件

光刻機(jī)生產(chǎn)制造的技術(shù)要求極高，ASML一臺(tái)光刻機(jī)包含了10萬(wàn)個(gè)零部件，需要40個(gè)標(biāo)準(zhǔn)集裝箱才能裝下，涉及到上游5000多家供應(yīng)商，比如德國(guó)的光學(xué)設(shè)備與超精密儀器，美國(guó)的計(jì)量設(shè)備與光源等。一臺(tái)光刻機(jī)的主要部件包含測(cè)量臺(tái)與曝光臺(tái)、激光器、光束矯正器、能量控制器等11個(gè)模塊。

資料來(lái)源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

2.光源

高端光刻機(jī)含有上萬(wàn)個(gè)零部件，而光學(xué)鏡片則是核心部件之一，高數(shù)值孔徑的鏡頭決定了光刻機(jī)的分辨率以及套值誤差能力；光源則是高端光刻機(jī)另一核心部件，光源波長(zhǎng)決定了光刻機(jī)的工藝能力。光刻機(jī)需要體積小、功率高而穩(wěn)定的光源。

隨著光源、曝光方式不斷改進(jìn)，光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。目前行業(yè)內(nèi)使用最多的是第四代浸入式光刻機(jī)，最高制程可達(dá)7nm，在7nm之后芯片廠商必須使用最頂級(jí)的EUV光刻機(jī)。EUV光刻機(jī)主要技術(shù)優(yōu)勢(shì)如下：更高的光刻分辨率；生產(chǎn)效率高，光刻工藝簡(jiǎn)單。但同時(shí)EUV光刻機(jī)也存在著許多問(wèn)題：耗能巨大，能量利用率低；光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)與制造復(fù)雜；光罩掩模版表面缺陷。