我國第三代半導(dǎo)體迎窗口期 2020年第三代半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)鏈及概念股一覽(圖)
來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院 發(fā)布日期:2020-11-26 11:10
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中商情報(bào)網(wǎng)訊:據(jù)悉,第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟理事長吳玲24日在2020國際第三代半導(dǎo)體論壇上透露,雙循環(huán)模式推動(dòng)國產(chǎn)化替代。預(yù)計(jì)2020年中國SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)電力電子和微波射頻產(chǎn)值約為70億元。其中,SiC、GaN電力電子產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值2020年將達(dá)35.35億元,比去年的29.03億元將增長21.77%;GaN微波射頻產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值2020年將達(dá)33.75億元,比去年的26.15億元將增長29%。

半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)過近六十年的發(fā)展,半導(dǎo)體材料經(jīng)歷了三次明顯的換代和發(fā)展。第一代半導(dǎo)體材料主要是指硅、鍺元素等單質(zhì)半導(dǎo)體材料;第二代半導(dǎo)體材料主要是指化合物半導(dǎo)體材料,如砷化鎵、銻化銦;第三代半導(dǎo)體材料主要分為碳化硅SiC和氮化鎵GaN,相比于第一、二代半導(dǎo)體,其具有更高的禁帶寬度、高擊穿電壓、電導(dǎo)率和熱導(dǎo)率,在高溫、高壓、高功率和高頻領(lǐng)域?qū)⑻娲皟纱雽?dǎo)體材料。

資料來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上游中的重要組成部分,在集成電路、分立器件等半導(dǎo)體產(chǎn)品生產(chǎn)制造中起到關(guān)鍵性的作用。第三代半導(dǎo)體材料以氮化鎵和碳化硅、氧化鋅、氧化鋁、金剛石等為代表。目前比較成熟的有碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)等。因此本文主要研究碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)兩大第三代半導(dǎo)體襯底材料。

其中,碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié)主要有襯底片、外延片和器件環(huán)節(jié)。從事襯底片的國內(nèi)廠商主要有露笑科技、三安光電、天科合達(dá)、山東天岳等;從事碳化硅外延生長的廠商主要有瀚天天成和東莞天域等;從事碳化硅功率器件的廠商較多,包括華潤微、揚(yáng)杰科技、泰科天潤、綠能芯創(chuàng)、上海詹芯等。

氮化鎵產(chǎn)業(yè)鏈與碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié)無較大差別,同樣分為襯底、外延片和器件環(huán)節(jié)。盡管碳化硅被更多地作為襯底材料,但國內(nèi)仍有從事氮化鎵單晶生長的企業(yè),主要有蘇州納維、東莞中鎵、上海鎵特和芯元基等;從事氮化鎵外延片的國內(nèi)廠商主要有三安光電、賽微電子、海陸重工、晶湛半導(dǎo)體、江蘇能華、英諾賽科等;從事氮化鎵器件的廠商主要有三安光電、聞泰科技、賽微電子、聚燦光電、乾照光電等。

在第三代半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)鏈制造以及應(yīng)用環(huán)節(jié)上,SiC可以制造高耐壓、大功率電力電子器件如MOSFET、IGBT、SBD等,用于智能電網(wǎng)、新能源汽車等行業(yè)。與硅元器件相比,GaN具有高臨界磁場(chǎng)、高電子飽和速度與極高的電子遷移率的特點(diǎn),是超高頻器件的極佳選擇,適用于5G通信、微波射頻等領(lǐng)域的應(yīng)用。

資料來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

中商產(chǎn)業(yè)研究院特整理第三代半導(dǎo)體材料氮化鎵概念股相關(guān)企業(yè)名單如下:


資料來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

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更多資料請(qǐng)參考中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《中國第三代半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)前景及投資機(jī)會(huì)研究報(bào)告,同時(shí)中商產(chǎn)業(yè)研究院還提供產(chǎn)業(yè)大數(shù)據(jù)、產(chǎn)業(yè)情報(bào)、產(chǎn)業(yè)研究報(bào)告、產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、園區(qū)規(guī)劃、十四五規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)招商引資等服務(wù)。



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